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传统的显示屏内部由许多电路组成，这些电路驱动着阴极射线显像管工作时，需要消耗很大的功率，而且随着体积的不断增大，其内部电路消耗的功率肯定也会随之增大。相比而言，TFT液晶屏的功耗主要消耗在其内部的电极和驱动IC上，因而耗电量比传统显示器也要小得多。

装配操作时的注意事项

■ 模块是经精心设计组装而成的，家电显示模块加工厂，请勿随意自行加工、修整。

■ 金属框爪不得随意扭动、拆卸。

■ 不要随意修改加工PCB板外形、装配孔、线路及部件。

■ 不得修改导电胶条。

■ 不要修改任何内部支架。

■ 不要碰、摔，折曲、扭动模块。

模块的使用与保养

■ 模块使用接入电源及断开电源时，必须在正电源(5±0.25V)稳定接人后，才能输入信号电平。如在电源稳定接人前，或断开后就输人信号电平，将会损坏模块中的集成电路，使模块损坏。

■ 点阵模块是高路数液晶显示器件，显示时的对比度、视角与温度、驱动电压关系很大。所以应调整Vee至佳对比度、视角时为止。如果Vee调整过高，不仅会影响显示，东莞显示模块，还会缩短液晶示器件的寿命。

■ 在规定工作温度范围下限以下使用时，显示响应很慢，而在规定工作温度范围上限上使用时，整个显示面又会变黑，这不是损坏，只需恢复规定温度范围，一切又将恢夏正常。

■ 用力按压显示部位，会产生异常显示。这时切断电源，重新接入，即可恢复正常。

■ 液晶显示器件或模块表面结雾时，不要通电工作，因为这将引起电极化学反应，产生断线。

■ 长期用于阳光及强光下时，被遮部位会产生残留影像。

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在彩色滤光片（ CF ）基板上形成彩色滤光图案的工艺

彩色滤光片着色部分的形成方法有染料法、颜料分散法、印刷法、电解沉积法、喷墨法。目前以颜料分散法为主。

颜料分散法的是将颗粒均匀的微细颜料（平均粒径小于 0.1 μ m ） (R 、 G 、 B 三色 ) 分散在透明感光树脂中。然后将它们依次用涂敷、曝光、显影工艺方法，依次形成 R. G. B 三色*案。在制造中使用光蚀刻技术，所用装置主要是涂敷、曝光、显影装置。

为了防止漏光，在 RGB 三色交界处一般都要加黑矩阵（ BM ）。以往多用溅射法形成单层金属铬膜，现在也有改用金属铬和氧化铬复合型的 BM 膜或树脂混合碳的树脂型 BM 。

此外，还需要在 BM 上制做一层保护膜及形成 IT0 电极 ， 由于带有彩色滤光片的基板是作为液晶屏的前基板与带有 TFT 的后基板一起构成液晶盒。所以必须关注好定位问题，使彩色滤光片的各单元与 TFT 基板各像素相对应。

液晶盒的制备工艺

在上下基板表面分别涂敷聚酰亚*膜并通过摩擦工艺，形成可诱导分子按要求排列的取向膜。之后在 TFT 阵列基板周边布好密封胶材料，并在基板上喷洒衬垫。同时在 CF 基板的透明电极末端涂布银浆。然后将两块基板对位粘接，仪器显示模块价格，使 CF 图案与 TFT 像素图案一一对正，再经热处理使密封材料固化。在印刷密封材料时，需留下*入口，以便抽真空灌注液晶。

近年来 ， 随着技术进步和基板尺寸的不断加大 ， 在盒的制做工艺上也有很大的改进 ，家电行业显示屏控制模块定制， 比较有代表性的是灌晶方式的改变 ， 从原来的成盒后灌注改为 ODF 法 ， 即灌晶与成盒同步进行。另外 . 垫衬方式也不再采用传统的喷洒法 ， 而是直接在阵列上用光刻法制作。

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成膜

顾名思义，成膜就是通过物理或化学的手段在玻璃基板的表面形成一层均匀的覆盖层。在TFT 阵列制作过程中，我们会用到磁控溅射（Sputter，或称物理气相沉积PVD）和等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）

磁控溅射（Sputter）

溅射是在真空条件下，用 He 气作为工作气体。自由电子在直流 DC 电场的作用下加速获得能量，高能电子碰撞 He 原子，产生等离子体。He 离子在DC 电场的作用下，加速获得能量，轰击在靶材上，将靶材金属或化合物原子溅射出来，沉积在附近的玻璃基板上，Z后形成膜。

TFT 沟道刻蚀主要是刻掉非晶硅表面的一层N 型参杂的接触层。这一层具有改善接触电阻的作用。但这一层在沟道的部分必须完全刻蚀干净，否则沟道短路或漏电流偏大。沟道是否刻蚀干净，用光学的办法不能检测，家电显示模块定做，因为 N 型参杂层是透明的。所以在沟道刻蚀后插入开路/短路（O/S）电测。

开路/短路电测的原理很简单：将两个探针放在电极的两端，检测电流以判断电极是否开路；将两个探针放在相邻的两个电极上，检测电流以判断这两个电极间是否短路。

TFT液晶屏的不足与改进方向

尽管TFT液晶屏在显示领域应用广泛，但它仍有一些限制:

可视角度有限:从侧面观看时，亮度和色彩会有衰减

能耗依赖背光:与自发光的OLED相比，功耗更高。

厚度限制:受制于背光模块，难以做到超薄极限。

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